Műegyetem
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem
Fizikai Kémia és Anyagtudományi Tanszék
Kolloidkémia Csoport

Kutatási felsőoktatási együttműködés

A Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem Vegyészmérnöki és Biomérnöki Kar és az MTA Műszaki Fizikai és Anyagtudományi Kutatóintézet létrehozták az MTA MFA-ban, dr. Volk János vezetésével a közös Kémiai Nanoszerkezetek Laboratóriumot és ezzel párhuzamosan a BME VBK Fizikai Kémia és Anyagtudományi Tanszék keretében, dr. Hórvölgyi Zoltán vezetésével a Szol-Gél Folyamatok Laboratóriumot A két laboratórium egymást kiegészítő kutatási-oktatási tevékenységének szinergizmusára épít. A KNL és az SZGFL tudományos tevékenységét a kémiai (szol-gél, kolloidika, atomi rétegleválasztás) bevonatok és az MTA MFA integrált mikro-, ill. nanotechnológia lehetőségeinek összekapcsolásával definiálandó kutatási témákra kívánja összpontosítani.

Kémiai Nanoszerkezetek Laboratórium (KNL) munkatársai:

Szol-Gél Folyamatok Laboratóriumot (SzGFL) munkatársai:

solgel

Közös kutatási témák

Atomi rétegleválasztás (ALD, Atomic Layer Deposition)

Az atomi rétegleválasztás egy rétegről-rétegre építkező kémiai módszer, mellyel ¬ nanométer pontossággal kontrollált vastagságú egykristályos (ALE, Atomic Layer Epitaxy), polikristályos vagy amorf bevonatok választhatók le. Az egymás után felépülő, önszerveződő atomi rétegek a telített felület által vezérelt kémiai reakciók eredményeképpen képződnek. A reakció hőmérsékletének pontos beállításával elérhető, hogy a vegyületek nem kondenzálódnak vagy bomlanak a felületen, hanem kemiszorpcióval kötődnek meg. A filmvastagság a reakció-ciklusok számával szabályozható. A rétegről-rétegre történő bevonatnövelés lehetővé teszi az anyag megváltoztatását minden lépés után. Az eljárás segítségével leggyakrabban leválasztott anyagok: HfO2 elektronikai alkalmazásokhoz, fém-oxidok és –nitridek (ZnO, TiO2, WNx, Al2O3) kedvező elektromos és mechanikai tulajdonságaik miatt. Az ALE eljárás egyik fő előnye, hogy a kívánt réteg konformálisan választható le, akár erősen strukturált felületekre is.

A munka célja, hogy a nedves kémiai úton előállított részecskék felületét néhány atomi réteggel bevont fém-oxid réteggel módosítsuk. Ez a felületi réteg, az alkalmazástól függően, egyaránt lehet passziváló réteg (pl. Al2O3 bevonat ZnO nanoszálon) vagy egy funkcionális bevonat (pl. TiO2 SiOx nanogömbön).

Funkcionális (nano-, ill. mikro-) részecskék előállítása és vizsgálata a potenciális alkalmazások szempontjából

A nanoszerkezetű halmazok speciális (pl. optikai és elektromos) tulajdonságai egyrészt nanostrukturáltságnak, másrészt az építőkövek, a nanorészecskék egyedi tulajdonságainak köszönhető. Számos esetben a nanorészecskék előnyös tulajdonságainak kialakítása (funkcionalizálása) a részecskék módosításával biztosítható. A részecskék bevonása például kémiailag különböző anyaggal mag-héj típusú részecskéket eredményez. A héjszerkezetű kompozit részecskékben előnyösen ötvöződnek az egyedi komponensek tulajdonságai, mely lehetővé teszi szélesebb körben való felhasználásukat. A héjszerkezetű kompozit részecskék a modern anyagtudomány fejlődésével egyre nagyobb szerephez jutnak elektromágneses és optikai alkalmazásokban (pl. “band gap engineering”). Sok esetben a részecskék felületének speciális molekulákkal történő módosítása, bevonása (kémiai felületmódosítás) hozza meg a kívánt eredményt a különböző orvosdiagnosztikai, szenzorikai alkalmazásokban.

A munka célja az, hogy új tulajdonságú, funkcionalizált nanorészecskéket állítsunk elő nedves kémiai eljárásokkal, és általánosítható ismereteket nyerjünk a részecskék különböző típusú módosításának folyamatáról, valamint a befolyásoló paraméterek pontos szerepéről.

A preparatív munka eredményeit nagyműszeres vizsgálatokkal (pásztázó- és transzmissziós elektronmikroszkópia, atomi erők mikroszkópiája, filmmérleg, optikai spektroszkópia, ellipszometria, stb.) ellenőrizzük. Megvizsgáljuk az előállított anyagok felhasználásának lehetőségét fotovoltaikus és fotokatalatikus készülékekben.

Nano Excellent Center

(c) BME Fizikai Kémia és Anyagtudományi Tanszék, Kolloidkémia Csoport, 2009